Zprávy

Níže podrobně představíme různé vlastnosti TFT LCD obrazovky:

(1) Ve velkém měřítku: první generace velkoplošného skleněného substrátu (3000 mm x 400 mm) TFT na počátku 90. let, plocha skleněného substrátu se v první polovině roku 2000 rozšířila na 6800 mm x 880 mm a byl také uveden do provozu skleněný substrát 950 mm x 1200 mm nedávno.

(2) Vysoká integrace: Rozlišení projekčního LCD 1,3palcového TFT zobrazovacího čipu je XGA, který obsahuje miliony pixelů. Rozlišení je . Tloušťka filmu 16,1palcového amorfního křemíku TFT SXGA (1280x1024) je pouze 50 nanometrů. Technická integrace TABONGLAS a SYSTEMONGLASS, technické požadavky na vybavení a dodávky a technická náročnost jsou vyšší než u tradičních LSI.

(3) Kompletní funkce: Displej z tekutých krystalů TFT byl původně používán jako maticový obvod pro výběr adresy, který zlepšil vlastnosti světelného ventilu z tekutých krystalů. U displejů s vysokým rozlišením může LCD obrazovka dosáhnout vysoce kvalitního zobrazení s vysokým rozlišením úpravou napětí v rozsahu 0-6 V zobrazení (jeho typická hodnota je 0,2~4V) a správným ovládáním cílového prvku.

(4) Nízká cena: Skleněné substráty a plastové substráty zásadně řeší nákladový problém velkých polovodičových integrovaných obvodů a otevírají široký aplikační prostor pro aplikaci velkých polovodičových integrovaných obvodů.

(5) Flexibilita procesu: Kromě naprašování, technologie laserového žíhání, CVD (chemická depozice z plynné fáze) MCVD může kromě tradiční tvorby filmu, jako je molekulárně chemická depozice z par, zvolit amorfní film, multiproduktový film a film s jedním produktem. Nejen, že umí dělat silikonový film, ale také jiné věci. Polovodičové filmy I-VI a tetra-V.

V obecných aplikačních oblastech je LCD obrazovka s tekutými krystaly založená na technologii TFT pilířem informační společnosti a může být také použita pro rychlý vývoj tenkovrstvých tranzistorů. (TFT-OLED) plochý displej.